题目
题型:同步题难度:来源:
(2)若①步没有过滤操作而直接进入步骤②,对后面的操作会有什么影响______________?
答案
②FeCl3+3NaOH=Fe(OH)3↓+3NaCl 、AlCl3 +4NaOH =3NaCl+NaAlO2+2H2O
④2Al(OH)3Al2O3+3H2O
(2)①中的不溶物SiO2在操作②中会被NaOH溶解,造成所得Al2O3中混有SiO2
核心考点
试题【工业上用铝土矿(主要成分是Al2O3、Fe2O3、SiO2)提纯Al2O3做冶炼铝的原料,提取的操作过程可用以下流程图表示:[已知:2NaAlO2+CO2+3H】;主要考察你对工业生产其他物质等知识点的理解。[详细]
举一反三
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:
②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式______________________________;H2还原SiHCl3 过程中若混入O2,可能引起的后果是_________________________________。
(2)下列有关硅材料的说法正确的是____(填字母)。
A.碳化硅化学性质稳定,可用于生产耐高温水泥
B.氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承
C.高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料--光导纤维
D.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,其熔点很高
E.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
(2)合成盐酸厂要求合成气中HCl的体积分数大于97%,试用最简便的方法进行分析____ 。
(1)用稀硝酸而不用浓硝酸的原因是___
(2)从经济效益和环境保护角度考虑,设计制取硝酸铜最适宜的方法,用化学方程式表示为____
BaSO4(s)+4C(s)4CO(g)+ BaS(s) △H1=+571.2kJ ·mol-1 ①
BaSO4(s)+2C(s)2CO2(g)+BaS(s) △H2 =+ 226. 2kJ·mol-1 ②
(1)气体用过量的NaOH溶液吸收,得到硫化钠。Na2S水解的离子方程式为_________。
(2)向BaCl2溶液中加入AgNO3和KBr,当两种沉淀共存时____________. [ Ksp ( AgBr) = 5.4×10-13 ,Ksp ( AgCl) = 2. 0×10 -10 ]
(3)反应C(s) +CO2(g)2CO( g)的△H=__________kJ·mol-1。
(4)实际生产中必须加入过量的炭,同时还要通入空气,其目的是_________。
(2)写出反应Ⅱ的离子方程式:_____________;
(3)结合反应Ⅱ,判断下列微粒结合质子(H+)的能力最强的是_____________ (填字母序号)。
a.AlO2-或[Al(OH)4]-
b.SiO32-
c.CO32-
(4)反应Ⅲ制取Al2O3的操作是:洗涤、______________。
(5)写出副产品Na2SiO3溶液的一种用途:_____________。
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