题目
题型：同步题难度：来源：
（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：
②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式______________________________；H2还原SiHCl3 过程中若混入O2，可能引起的后果是_________________________________。
（2）下列有关硅材料的说法正确的是____（填字母）。
A．碳化硅化学性质稳定，可用于生产耐高温水泥
B．氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作高温陶瓷和轴承
C．高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料--光导纤维
D．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的，其熔点很高
E．盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
答案
Si+3HCl；②SiHCl3+3H2O= H2SiO3↓+3HCl↑+H2↑ 氧气与氢气混合，可能引起爆炸，氧气可能会氧化SiHCl3，（2）BC
核心考点
试题【硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图】；主要考察你对工业生产其他物质等知识点的理解。[详细]
举一反三
(2)合成盐酸厂要求合成气中HCl的体积分数大于97%，试用最简便的方法进行分析____ 。
(1)用稀硝酸而不用浓硝酸的原因是___
(2)从经济效益和环境保护角度考虑，设计制取硝酸铜最适宜的方法，用化学方程式表示为____
BaSO4(s)+4C(s)
4CO(g)+ BaS(s) △H1=+571.2kJ ·mol-1 ①BaSO4(s)+2C(s)
2CO2(g)+BaS(s) △H2 =+ 226. 2kJ·mol-1 ② (1)气体用过量的NaOH溶液吸收，得到硫化钠。Na2S水解的离子方程式为_________。
(2)向BaCl2溶液中加入AgNO3和KBr，当两种沉淀共存时
____________． [ Ksp ( AgBr) = 5.4×10-13 ,Ksp ( AgCl) = 2. 0×10 -10 ](3)反应C(s) +CO2(g)
2CO( g)的△H=__________kJ·mol-1。(4)实际生产中必须加入过量的炭，同时还要通入空气，其目的是_________。
(2)写出反应Ⅱ的离子方程式：_____________；
(3)结合反应Ⅱ，判断下列微粒结合质子(H+)的能力最强的是_____________ （填字母序号）。
a.AlO2-或[Al(OH)4]-
b.SiO32-
c.CO32-
(4)反应Ⅲ制取Al2O3的操作是：洗涤、______________。
(5)写出副产品Na2SiO3溶液的一种用途：_____________。
①温度较低时：2KOH+Cl2=KCl+KClO+H2O
②温度较高时：6KOH+3Cl2=5 KCl+KClO3+3H2O
③Fe(NO3)3+KClO+KOH→K2FeO4+KNO3+KCl+H2O（未配平）
(1)该生产应在温度________的情况下进行（填“较高”或“较低”）；
(2)请配平反应③：
口Fe(NO3)3+口KClO+口KOH→口K2FeO4+口KNO3+口KCl+H2O
(3) K2FeO4具有强氧化性的原因为___________；
(4)在“反应液I”中加KOH固体的目的是____________；
A．为下一步反应提供反应物
B．与“反应液I”中过量的Cl2继续反应，生成更多的KClO
C．KOH同体溶解时会放出较多的热量，有利于提高反应速率
D．使副产物KClO3转化为KClO
(5)从“反应液Ⅱ”中分离出K2FeO4晶体后，可以得到的副产品有 ____（写化学式）。
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