题目
磁控溅射镀膜与蒸发镀膜的区别
提问时间：2021-04-01
答案
前者为离子轰击靶材,然后靶材物质溅射,沉积在基片上.
后者物质加热,达到熔点,再达到沸点,蒸发至基片上.
后者物质加热,达到熔点,再达到沸点,蒸发至基片上.
举一反三
已知函数f（x）=x，g（x）=alnx，a∈R．若曲线y=f（x）与曲线y=g（x）相交，且在交点处有相同的切线，求a的值和该切线方程．
我想写一篇关于奥巴马的演讲的文章,写哪一篇好呢?为什么好
奥巴马演讲不用看稿子.为什么中国领导演讲要看?
想找英语初三上学期的首字母填空练习……
英语翻译
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