题目
题型:专项题难度:来源:
Li2CO3的工艺流程如下
12.4;Li2SO4、LiOH和Li2CO3在303K下的溶解度分别为34.2g、12.7g和1.3g.
(1)步骤Ⅰ前,-锂辉石要粉碎成细颗粒的目的是_____________.
(2)步骤Ⅰ中,酸浸后得到的酸性溶液中含有Li+、SO42-,另含有Al3+、Fe3+、Fe2+、Mg2+、Ca2+、
Na+等杂质,需在搅拌下加入_____________(填“石灰石”、“氯化钙”或“稀硫酸”)以调节溶液的PH到6.0~6.5,沉淀部分杂质离子,然后分离得到浸出液。
(3)步骤Ⅱ中,将适量的H2O2溶液、石灰乳和Na2CO3溶液依次加入浸出液中,可除去的杂质金属离子有______________.
(4)步骤Ⅲ中,生成沉淀的离子方程式为________________.
(5)从母液中可回收的主要物质是_____________.
答案
(2)石灰石
(3)
(4)
(5)NaOH
核心考点
试题【碳酸锂广泛应用于陶瓷和医药等领域。以-锂辉石(主要成分为Li2OAl2O34SiO2)为原材料制备Li2CO3的工艺流程如下已知:Fe3+、Al3+、Fe2+和】;主要考察你对工业生产其他物质等知识点的理解。[详细]
举一反三
(1)气体用过量NaOH溶液吸收,得到硫化钠。Na2S水解的离子方程式为______________________
(2)向BaCl2溶液中加入AgNO3和KBr,当两种沉淀共存时__________________
(3)
(4)实际生产中必须加入过量的炭,同时还要通入空气,其目的是______________、______________。
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制 备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:
②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式______________________________;H2还原SiHCl3 过程中若混入O2,可能引起的后果是_________________________________。
(2)下列有关硅材料的说法正确的是____(填字母)。
A.碳化硅化学性质稳定,可用于生产耐高温水泥
B.氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承
C.高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料--光导纤维
D.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,其熔点很高
E.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
(1)“浸出”步骤中,为提高镁的浸出率,可采取的措施有__________________(要求写出两条)。
(2)滤渣I的主要成分有________________
(3)从滤液Ⅱ中可回收利用的主要物质有______________________
(4)Mg(ClO3)2在农业上可用作脱叶剂、催熟剂,可采用复分解反应制备:MgCl2+2NaClO3=Mg(ClO3)2
+2NaCl已知四种化合物的溶解度(s)随温度(T)变化曲线如下图所示:
②按①中条件进行制备实验。在冷却降温析出Mg(ClO3)2过程中,常伴有NaCl析出,原因是:__________________________。除去产品中该杂质的方法是:___________________________。
(2)酸化操作是加入盐酸,调节溶液的pH约为4.0,其目的有:①将溶液中的少量 Ca( OH)2转化为CaCl2;②防止Ca2+在蒸发时水解;③____。
(3)测定样品中Cl-含量的方法是:a称取0.7500 g样品,溶解在250 mL容量瓶中定容;b量取25.00 mL待测溶液于锥形瓶中;c用0.05000 moI/LAgNO3溶液滴定至终点,消耗AgNO3溶液体积的平均值为20. 39 mL。
①述测定过程中需用溶液润洗的仪器有_______________ 。
②计算上述样品中CaCl2·2H2O的质量分数为___________________。
③若用上述方法测定的样品中CaCl2·2H2O的质量分数偏高(测定过程中产生的误差可忽略),其可能原因有___________________________;_____________________ 。
A.锌粉 B.铁屑 c.KI溶液 D.H2
(2)反应I需控制反应温度低于35℃,其目的是_________________
(3)工业生产上常在反应Ⅲ的过程中加入一定量的醇类溶剂,其目的是___________________。。
(4)反应Ⅳ常被用于电解生产(NH4)2 S2O8(过二硫酸铵)。电解时均用惰性电极,阳极发生的电极反应可表示为____________________________________________ 。
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