题目
题型:不详难度:来源:
(2)氯气用于生产半导体材料硅的流程如下:
(3)①石英砂的主要成分是______,在制备粗硅时,焦炭的作用是______.
②粗硅与氯气反应后得到的液态四氯化硅中常混有一些杂质,必须进行分离提纯.其提纯方法为______.
③由四氯化硅得到高纯硅的化学方程式是:______.
答案
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故答案为:2NaCl+2H2O
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(3)①石英砂的主要成分是二氧化硅,制备粗硅发生SiO2+2C
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故答案为:SiO2;还原剂;
②粗硅与氯气反应后得到沸点较低的液态四氯化硅,其中常混有一些高沸点、难挥发性杂质,因沸点不同,则分离提纯法选蒸馏法,故答案为:蒸馏;
③四氯化硅与氢气在高温条件下反应得到高纯硅和氯化氢气体,该反应为SiCl4+2H2
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故答案为:SiCl4+2H2
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核心考点
试题【(1)电解饱和食盐水可以制得烧碱、氯气和氢气,该反应的化学方程式为:______.(2)氯气用于生产半导体材料硅的流程如下:(3)①石英砂的主要成分是_____】;主要考察你对电解池原理等知识点的理解。[详细]
举一反三
产。下列说法中正确的是
A.氯碱工业中,X、Y均为石墨,Y附近能得到氢氧化钠 | B.铜的精炼中,X是纯铜,Y是粗铜,Z是CuSO4 | C.电镀工业中,X是待镀金属,Y是镀层金属 | D.外加电流的阴极保护法中,Y是待保护金属 |
A.1.4 | B.5.6 | C.7 | D.12.6 |
⑴在电解过程中,与电源正极相连的电极上所发生的电极反应式为 。
⑵电解之前,食盐水需要精制,目的是除去粗盐中的、Ca2+、Mg2+、SO42-等杂质离子,使用的试剂有:a.Na2CO3溶液,b.Ba(OH)2溶液,c.稀盐酸,其合理的加入顺序为(填试剂序号) 。
⑶如果在容积为10L的离子交换膜电解槽中,1min后在阴极可产生11.2L(标准状况)Cl2,这时溶液的pH值是 (填“升高”、“降低”或“不变”),溶液中c(OH-)为(设体积保持不变) 。
⑷若没有阳离子交换膜的存在,则电解饱和食盐水的化学方程式是
。
A.Cl- | B.OH- | C.Na+ | D.Cl2 |
A.H2SO4 | B.NaOH | C.Na2SO4 | D.NaCl |
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