题目
题型:模拟题难度:来源:
(1)反应①能生成NH4Al(SO4)2的原因是____。
(2)反应②除了生成NH4Al(OH) 2CO3外,还有多种生成物,其中有一种是气体,试写出该反应的化学方程式:___。判断NH4Al(OH)2CO3沉淀已洗涤干净的方法是___。
(3)反应③的化学方程式为___。
(4)已知室温下向NH4Al(SO4)2溶液中逐滴加入NaOH溶液时生成的沉淀的质量与滴入NaOH溶 液的体积关系如图所示。
②Kb( NH3·H2O)__Kb[Al(OH)3](Kb指弱碱的电离常数),NH4Al(SO4)2溶液中各离子 浓度的大小关系为___。
答案
(2) 2NH4 Al(SO4)2+8NH4HCO3=4( NH4)2 SO4+ 2NH4Al(OH)2CO3+6CO2↑+2H2O; 取最后一次洗涤液,加入BaCl2溶液,无沉淀产生即可说明洗涤干净
(3)2NH4Al(OH)2CO3Al2O3+3H2O↑+2CO2↑+2NH3↑
(4)①3;3
②> ;c(SO42-)>c(NH4+)>c(Al3+)>c(H+)>c(OH-)
核心考点
试题【超细氧化铝是一种重要的功能陶瓷原料,实验室可以用如下方法来制备这种材料。 试回答下列问题。 (1)反应①能生成NH4Al(SO4)2的原因是____。(2)反应】;主要考察你对物质制备实验方案的设计等知识点的理解。[详细]
举一反三
(2)“操作Ⅳ”是一种过滤操作,该操作用到的玻璃仪器除漏斗外还有____。
(3)某白色结晶性粉末可能是丙酸钙或碳酸钠。请你设计合理的实验确定该物质是丙酸钙:___。 提供的试剂:稀硫酸、稀盐酸。仪器自选。
(1)请选取必要的装置,按照气流的方向,连接顺序为c_____j(填仪器接口的字母序号)。装置戊的作用是____。
(2)有同学用饱和Na2CO3溶液取代了装置丁中的饱和NaHCO3溶液,请你评价该同学的操作是否合理,并简要说明理由:____。
(3)装置甲中反应的化学方程式为___,装置甲中反应完全的标志有___ 。
(4)请设计实验探究实验后装置甲中残留物质是否含有过氧化钾或超氧化钾:___。
①高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅
②粗硅与干燥HCl气体反应制得SiHCl3:Si+3HClSiHCl3+H2
③SiHCl3与过量H2在1000~1100℃反应制得纯硅已知SiHCl3,能与H2O强烈反应,在空气中易自燃。
请回答下列问题:
(1)第①步制备粗硅的化学反应方程式为_________________。
(2)粗硅与HCl反映完全后,经冷凝得到的SiHCl3(沸点33.0℃)中含有少量SiCl4(沸点57.6℃)和HCl(沸点--84.7℃),提纯SiHCl3采用的方法为___________。
(3)用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如下(热源及夹持装置略去):
②反应一段时间后,装置D中观察到的现象是______________________,装置D不能采用普通玻璃管的原因是___________,装置D中发生反应的化学方程式为______________________。
③为保证制备纯硅实验的成功,操作的关键是检查实验装置的气密性,控制好反应温度以及________。
④为鉴定产品硅中是否含微量铁单质,将试样用稀盐酸溶解,取上层清液后需再加入的试剂
(填写字母代号)是_________。
a.碘水 b.氯水 c.NaOH溶液 d.KSCN溶液 e.Na2SO3溶液
a.四氯化硅遇水极易水解;
b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物;
c.有关物质的物理常数见下表:
(1)写出装置A中发生反应的离子方程式____。
(2)装置A中g管的作用是____;装置c中的试剂是____;装置E中的h瓶需要冷却的理由是______ 。
(3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅,精馏后的残留物中,除铁元素外可能还含有的杂质元素是_____(填写元素符号)。
(4)为了分析残留物中铁元素的含量,先将残留物预处理,使铁元素还原成Fe2+, 再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定,反应的离子方程式是:5Fe2+ +MnO4- +8H+= 5Fe3++Mn2+ +4H2O
①滴定前是否要滴加指示剂?_____________(填“是”或“否”),请说明理由____
②某同学称取5.000 g残留物,经预处理后在容量瓶中配制成100 mL溶液,移取25.00 mL试样溶液,用1.000×10-2 moI/LKMnO4标准溶液滴定。达到滴定终点时,消耗标准溶液20. 00 mL,则残留物中铁元素的质量分数是_______。
(2)在制得铜的方案中会导致环境污染的一步操作是___,其原因是___。
(3)在可制得铜的方案中,主要的离子方程式是______。
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