题目
题型:不详难度:来源:
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:
①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式____________________。
②整个制备过程必须严格控制无水、无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式____________________;H2还原SiHCl3过程中若混有O2,可能引起的后果是____________________。
(2)下列有关硅材料的说法正确的是 ( )。
A.单质硅化学性质稳定,但可以被强碱溶液腐蚀
B.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
C.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,其熔点很高
D.光导纤维的主要成分是SiO2
(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入盐酸,振荡。写出实验现象并给予解释(用化学方程式说明)_________________________ ____。
(4)在人体器官受到损伤时,需要使用一种新型无机非金属材料来植入体内,这种材料是________(填字母)。
A.高温结构陶瓷 B.生物陶瓷 C.导电陶瓷
答案
②SiHCl3+3H2O=H2SiO3+H2↑+3HCl↑
高温下,H2遇O2可能会引起爆炸;O2可能会氧化SiHCl3
(2)AD
(3)生成白色絮状沉淀,Na2SiO3+2HCl=2NaCl+H2SiO3↓
(4)B
解析
核心考点
试题【硅单质及其化合物应用很广。请回答下列问题:(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下】;主要考察你对碳族元素等知识点的理解。[详细]
举一反三
相关信息如下:
a.四氯化硅遇水极易水解;
b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物;
c.有关物质的物理常数见下表:
物 质 | SiCl4 | BCl3 | AlCl3 | FeCl3 | PCl5 |
沸点/℃ | 57.7 | 12.8 | - | 315 | - |
熔点/℃ | -70.0 | -107.2 | - | - | - |
升华温度/℃ | - | - | 180 | 300 | 162 |
请回答下列问题:
(1)写出装置A中发生反应的离子方程式 ____________________________。
(2)装置A中g管的作用是________;装置C中的试剂是________;装置E中的h瓶需要冷却的理由是________________________________________。
(3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅,精馏后的残留物中,除铁元素外可能还含有的杂质元素是________(填写元素符号)。
(4)为了分析残留物中铁元素的含量,先将残留物预处理,使铁元素还原成Fe2+,再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定,反应的离子方程式是:5Fe2++MnO4-+8H+=5Fe3++Mn2++4H2O
滴定前是否要滴加指示剂?________(填“是”或“否”),请说明理由______________________。
②某同学称取5.000 g残留物,经预处理后在容量瓶中配制成100 mL溶液,移取25.00 mL试样溶液,用1.000×10-2 mol·L-1 KMnO4标准溶液滴定。达到滴定终点时,消耗标准溶液20.00 mL,则残留物中铁元素的质量分数是________。
A.制普通玻璃的原料主要是纯碱、石灰石和石英砂 |
B.玻璃在加热熔化时有固定的熔点 |
C.普通玻璃的主要成分中有硅酸钠、硅酸钙 |
D.盛放烧碱溶液的试剂瓶不能用玻璃塞,是为了防止烧碱跟二氧化硅反应生成硅酸钠而使瓶塞与瓶口黏在一起 |
A.酸性氧化物都不与酸溶液反应 |
B.陶瓷、水泥及所有的玻璃都是硅酸盐产品 |
C.某些非金属单质既能与酸反应也能与碱反应 |
D.硅酸盐都是难溶于水的 |
A.硅酸钙可用于生产黏合剂和防火剂 |
B.用石英器皿盛放氢氟酸 |
C.SiO2和CO2都能溶于水且与水反应生成相应的酸 |
D.用NaHCO3治疗胃酸过多 |
A.①③是置换反应,②是化合反应 |
B.高温下,焦炭与氢气的还原性均强于硅的 |
C.任一反应中,每消耗或生成28 g硅,均转移4 mol电子 |
D.高温下将石英砂、焦炭、氯气、氢气按一定比例混合可得高纯硅 |
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