题目
题型:不详难度:来源:
相关信息如下:
a.四氯化硅遇水极易水解;
b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物;
c.有关物质的物理常数见下表:
请回答下列问题:
(1)写出装置A中发生反应的离子方程式 。
(2)装置A中g管的作用是 ;装置C中的试剂是 ;装置E中的h瓶需要冷却理由是 。
(3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅,精馏后的残留物中,除铁元素外可能还含有的杂质元素是 (填写元素符号)。
(4)为了分析残留物中铁元素的含量,先将残留物预处理,是铁元素还原成Fe2+,再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定,反应的离子方程式是:
①滴定前是否要滴加指示剂? (填“是”或“否”),请说明理由 。
②某同学称取5.000g残留物,预处理后在容量瓶中配制成100ml溶液,移取25.00ml,试样溶液,用1.000×10-2mol· L-1KMnO4标准溶液滴定。达到滴定终点时,消耗标准溶液20.00ml,则残留物中铁元素的质量分数是 。
答案
(2)平衡压强 浓硫酸 使SiCl4冷凝
(3)Al、P、Cl
(4)①否;KMnO4溶液自身可作指示剂;
②4.480%
解析
核心考点
试题【单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硫、磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450-500°C),四氯】;主要考察你对碳族元素等知识点的理解。[详细]
举一反三
A.CO2、PbO2都是强氧化剂 |
B.CO2和PbO2都是弱氧化剂,CO和PbO都是还原剂 |
C.Sn(OH)4可与NaOH反应,但不与盐酸反应 |
D.Ge单质的熔点介于Si、Pb之间,是半导体材料 |
A.X是非金属元素 |
B.X的+2价化合物比+4价化合物稳定 |
C.XO2具有强氧化性 |
D.X有稳定的气态氢化物 |
们互称为 ( )
A.同系物 | B.同分异构体 | C.同素异形体 | D.同位素 |
A.是两种单质组成的混合物 | B.相对分子质量为2400 |
C.是一种化合物 | D.其晶体类型属于分子晶体 |
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